PHMRF-100P磁流变抛光机床

设备用途
本设备主要应用于高精度光学玻璃、石英玻璃、蓝宝石晶体材料，陶瓷材料，半导体晶片等硬脆性元件的精密研磨抛光。

设备简介
     机床的环性非导磁研抛盘采用高密度树脂组成，具有运行平稳不变形、无冲击、噪音低的特点，环形研抛盘对称分布二到四轴工件夹持装置，Z轴进给方向采用独立伺服进给，精确控制每个抛光轴的抛光间隙。工件自转采用高速伺服驱动，研抛盘驱动采用高精度行星减速机驱动。

     本机床的磁场发生装置采用高导磁材料设计。磁极各发生器设计成可拆分防结构，根据不同工件的研抛特点，可改变磁极的形状以适应工件抛光的工艺改变。通过调节磁场和发生器的电流从而控制磁流变液的剪切力。磁场发生器采用内置铜管水冷设计，可有效控制装置的升温引起磁场变化而影响磁流变液的抛光稳定性。

     机床配有专用的磁流变液循环装置，引用回收装置将从抛光区域的磁流变液进行回收处理。能够始终保持磁流变也的成分均匀及温度稳定，从而保证磁流变抛光在一定的工况下，保持最佳的抛光效果。

     磁流变液采用辉碟公司菲博士® PHMW-W01A型水基磁流变液及PHMW-OL01A油基磁流变抛光液，根据不同工件材质不同选用不同的磁流变液。

     与传统的超精密加工相比，PHMRF-100P磁流变抛光机床能够获得质量较高的光学表面。能够获得比较复杂的表面形状，通过控制磁场发生器的电流来控制切削去除量的大小。不会存在刀具磨损，堵塞现象，在可控磁场的作用下，刀具形状误差及刀具运动的振动误差，摩擦误差等在磁流变抛光中对加工精度影响极小。

PHMRF-100P磁流变抛光机床技术参数