PHMRF-100P磁流变抛光机床
设备用途 本设备主要应用于高精度光学玻璃、石英玻璃、蓝宝石晶体材料,陶瓷材料,半导体晶片等硬脆性元件的精密研磨抛光。
设备简介 机床的环性非导磁研抛盘采用高密度树脂组成,具有运行平稳不变形、无冲击、噪音低的特点,环形研抛盘对称分布二到四轴工件夹持装置,Z轴进给方向采用独立伺服进给,精确控制每个抛光轴的抛光间隙。工件自转采用高速伺服驱动,研抛盘驱动采用高精度行星减速机驱动。
本机床的磁场发生装置采用高导磁材料设计。磁极各发生器设计成可拆分防结构,根据不同工件的研抛特点,可改变磁极的形状以适应工件抛光的工艺改变。通过调节磁场和发生器的电流从而控制磁流变液的剪切力。磁场发生器采用内置铜管水冷设计,可有效控制装置的升温引起磁场变化而影响磁流变液的抛光稳定性。
机床配有专用的磁流变液循环装置,引用回收装置将从抛光区域的磁流变液进行回收处理。能够始终保持磁流变也的成分均匀及温度稳定,从而保证磁流变抛光在一定的工况下,保持最佳的抛光效果。
磁流变液采用辉碟公司菲博士® PHMW-W01A型水基磁流变液及PHMW-OL01A油基磁流变抛光液,根据不同工件材质不同选用不同的磁流变液。
与传统的超精密加工相比,PHMRF-100P磁流变抛光机床能够获得质量较高的光学表面。能够获得比较复杂的表面形状,通过控制磁场发生器的电流来控制切削去除量的大小。不会存在刀具磨损,堵塞现象,在可控磁场的作用下,刀具形状误差及刀具运动的振动误差,摩擦误差等在磁流变抛光中对加工精度影响极小。
PHMRF-100P磁流变抛光机床技术参数
研抛盘材质 |
高密度树脂 |
研抛盘外径 |
600mm/800mm |
研抛盘形状 |
环形 |
研抛盘线速度 |
10m/min~100m/min |
磁极对数 |
2对/4对 |
磁极高度 |
50mm/100mm |
励磁电压 |
0~24Vdc/0~24V脉冲 |
主轴驱动 |
交流伺服 |
工件主轴转速 |
0~5000RPM |
主轴数量 |
2轴/4轴 |
Z轴行程 |
200mm/300mm |
Z轴驱动 |
交流伺服 |
对刀方式 |
压力式对刀/磁致伸缩对刀 |
磁流变液基材 |
水基或油基PH值=6~8 |
最大工件尺寸 |
150mm×150mm |
最大去除率 |
0.2μm/min |
最小表面粗糙度 |
Ra0.06~Ra0.08μm |
工件装夹方式 |
夹具或真空 |
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